EUV 대체 반도체 시스템 발표한 캐논… 대중국 무역 제한은 불가피

2023.11.07 Charlotte Trueman | Computerworld

캐논이 나노임프린트 리소그래피(NIL) 시스템을 제조하겠다고 발표한 지 약 한 달이 흘렀다. 이 제품은 시중의 기술보다 더 저렴하지만, 중국에 대한 무역 제한을 피할 수는 없을 것이라고 캐논 CEO는 설명했다.

캐논은 지난 10월 나노임프린트 리소그래피 장비를 발표하며 네덜란드 ASML의 칩 제조 기술보다 저렴한 가격에 공급하겠다고 밝혔다. 이를 통해 소규모 제조업체도 첨단 반도체를 만들 수 있도록 하겠다고 설명했다. 하지만 이는 미국의 압박으로 시행된 대중국 무역 제재에 직면할 가능성이 높다.

캐논이 발표한 NIL 시스템은 최첨단 반도체 소자 제조에 사용되는 극자외선(EUV) 및 심자외선(DUV) 포토리소그래피 기술을 대체하는 용도로 쓰인다.

현재 반도체 제조 장비는 네덜란드 ASML이 거의 독점하고 있다. ASML은 7나노미터(nm) 이하의 칩을 대량 생산할 수 있는 최신 EUV 및 DUV 기술 장비를 유일하게 공급한다. 그러나 장비 가격이 수억 달러에 달하기 때문에 소규모 업체는 해당 기술에 접근하기 어렵다. ASML도 다른 칩 제조업체와 마찬가지로 미국 제재로 인해 중국에 대한 EUV 기술의 수출이 금지된 상태다.

일본 캐논은 지난달 NIL 시스템을 소개하며 해당 장비가 5nm 노드까지 부품을 생산할 수 있다고 밝혔다. 또한 기술이 더 개선되면 최대 2nm 노드를 생산할 수 있을 것이라고 덧붙였다.

캐논의 NIL 기술은 회로 패턴이 각인된 마스크를 웨이퍼 위에 도장처럼 눌러서 전사한다. 기존 포토리소그래피 장비는 회로 패턴을 레지스트 코팅 웨이퍼에 투사하여 옮기는 방식이었다. 종전까진 제조 공정에서 광학 메커니즘을 사용해야 했지만, 이 단계가 필요 없어지면서 기계 소유 비용을 절감할 수 있다고 캐논은 밝혔다.

재팬타임즈 보도에 따르면 캐논 CEO 미타라이 후지오는 “가격은 ASML의 EUV보다 한 자릿수 낮을 것”이라고 말했지만, 아직 최종 가격 책정은 이뤄지지 않았다고 덧붙였다. 장비 출시 일정도 현재까진 밝혀지지 않았다.

일본 정부는 미국으로부터 대중국 무역 규제를 시행하라는 압박을 받고 수출 규제를 시행한 바 있다. 규제에는 나노임프린트 기술이 명시되지 않았지만, 미타라이는 14nm 기술 이상의 수출은 금지되어 있기 때문에 회색 지대가 있더라도 새 기술을 중국에 판매할 수 없을 것으로 본다고 말했다.

일본, 자체 칩 산업 육성 지속
팬데믹과 미중 기술 무역 분쟁으로 공급망에 차질이 생기면서 자체 칩 산업을 육성하려는 국가가 늘고 있다. 지난 4월 일본 정부는 차세대 칩 개발 및 생산 프로젝트에 700억 엔을 지원하겠다고 밝혔다. 2025년까지 일본에서 2nm 칩을 생산하기로 한 래피더스(Rapidus)의 계약도 프로젝트에 포함된다.

또한 마이크론(Micron)은 지난 5월 EUV를 일본에 도입하는 데 5,000억 엔을 투자할 계획을 발표하기도 했다. 이 생산 방식을 일본에 처음 도입하는 사례가 될 예정이다.

마이크론은 장비를 활용해 1감마 칩으로도 알려진 차세대 동적 랜덤 액세스 메모리(DRAM)를 히로시마 공장에서 생산하겠다고 밝혔다. DRAM 칩은 저비용, 고용량 메모리가 필요한 디지털 기기에 폭넓게 사용된다. ciokr@idg.co.kr

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“유료 VPN, 분명한 가치 있다” VPN 선택 가이드

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