칩 제조사 마이크로 테크놀로지가 극자외선 리소그래피(EUV) 생산 시설을 일본에 건립한다. 회사는 약 36억 달러를 투자할 계획이다.
극자외선 리소그래피(EVU)는 최첨단 반도체 소자 제조에 사용되는 기술이다. 마이크론은 히로시마 공장에서 이 기술을 활용해 1감마(1-gamma) 칩이라고도 하는 차세대 디램 메모리를 생산할 계획이다.
마이크론의 산자이 메로트라 CEO는 "일본 최초로 EUV를 사용하고 히로시마 팹에서 1감마를 개발 및 생산하게 된 것을 자랑스럽게 생각한다. 우리의 계획은 일본에 대한 지속적인 헌신, 일본 정부와의 긴밀한 관계, 마이크론 히로시마 팀의 뛰어난 재능을 반영한다”라고
말했다.
자국 내 칩 제조 활성화
계속되는 글로벌 칩 부족과 미중 칩 전쟁의 격화로 인해 칩 수출에 대한 광범위한 제한이 가해지면서 여러 국가들이 영향 받는 가운데, 현재 일본을 포함한 많은 정부들이 자국 내 칩 제조 역량을 강화하기 위해 노력하고 있다.
일본 정부는 이미 2025년까지 일본에서 2나노 칩을 생산하기로 한 래피두스와의 계약을 포함하여 차세대 칩 개발 및 생산 프로젝트에 상당한 재정적 지원을 약속한 바 있다. 정부 지원 규모는 700억 엔(5억 3,200만 달러)에 이른다. 도요타, 소니, 거대 통신사 NTT도 이 프로젝트에 투자했다.
마이크론의 일본 칩 제조 투자 소식은 마이크론이 뉴욕주 오논다가 카운티에 200억 달러를 투자하여 미국 최대 규모의 반도체 공장을 건설하겠다고 발표한 지 8개월 만에 나왔다. 회사는 지난달 아이다호주 보이시에 있는 본사 근처에 메모리 제조 팹을 착공한 바 있다.
당시 성명에서 메로트라 CEO는 최근 몇 년간 시장 점유율이 급격히 하락한 미국 국내 반도체 제조 산업을 활성화하기 위해 500억 달러 규모의 칩스 앤 사이언스 법안이 통과된 것을 높이 평가했다. ciokr@idg.co.kr
2023.05.19
Charlotte Trueman | Computerworld
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