2015.02.24

"무어의 법칙, 7nm 공정까지는 유효" 인텔 전망

Brian Cheon | CIO KR
오랜 '정설'이 마침내 한계를 맞이하고 있다. 18개월마다 2배씩 트랜지스터 집적도가 증가한다는 무어의 법칙이 깨지는 것은 이제 시간 문제일 따름이다. 인텔 연구진은 그러나 아직 몇 년 더 남았다고 밝혔다.

이번 주 샌프란시스코에서 열리는 ISSCC(International Solid-State Circuits Conference)에 앞선 기자들과의 컨퍼런스콜에서 회사의 시니어 펠로우 마크 보어는 2018년까지는 현재의 추세가 이어질 수 있을 것으로 관측했다.

그에 따르면 현재의 14nm 공정은 2016년 10nm 공정으로, 2018년 7nm 공정으로 발전할 것으로 관측되며, 이 때까지는 자외선 레이저와 같이 복잡한 제조 기법으로의 전환 없이도 반도체 기술 발전이 이어질 전망이다.

즉 올해 50년을 맞이한 무어의 법칙이 2018년까지는 지속될 수 있을 것으로 예상한 것이다.

인텔은 이미 14nm 공정의 브로드웰 칩을 공급함에 있어 예정보다 수개월 지체됐다. 제조사상의 이슈때문이었다.

보어는 그러나 10nm 공정으로의 전환과 관련해서는 이러한 지연 현상을 겪지 않을 것으로 기대한다고 전했다. ciokr@idg.co.kr 



2015.02.24

"무어의 법칙, 7nm 공정까지는 유효" 인텔 전망

Brian Cheon | CIO KR
오랜 '정설'이 마침내 한계를 맞이하고 있다. 18개월마다 2배씩 트랜지스터 집적도가 증가한다는 무어의 법칙이 깨지는 것은 이제 시간 문제일 따름이다. 인텔 연구진은 그러나 아직 몇 년 더 남았다고 밝혔다.

이번 주 샌프란시스코에서 열리는 ISSCC(International Solid-State Circuits Conference)에 앞선 기자들과의 컨퍼런스콜에서 회사의 시니어 펠로우 마크 보어는 2018년까지는 현재의 추세가 이어질 수 있을 것으로 관측했다.

그에 따르면 현재의 14nm 공정은 2016년 10nm 공정으로, 2018년 7nm 공정으로 발전할 것으로 관측되며, 이 때까지는 자외선 레이저와 같이 복잡한 제조 기법으로의 전환 없이도 반도체 기술 발전이 이어질 전망이다.

즉 올해 50년을 맞이한 무어의 법칙이 2018년까지는 지속될 수 있을 것으로 예상한 것이다.

인텔은 이미 14nm 공정의 브로드웰 칩을 공급함에 있어 예정보다 수개월 지체됐다. 제조사상의 이슈때문이었다.

보어는 그러나 10nm 공정으로의 전환과 관련해서는 이러한 지연 현상을 겪지 않을 것으로 기대한다고 전했다. ciokr@idg.co.kr 

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